Page 109 - 涂料工业2024年第04期电子刊

ArF

a re ation tructure and ur ace propertie o poly photolitho raphy： S2007 0087286A1 . 2006-10-02.
（ luoroal yl acrylate）thin ilm . Macromolecule ，2005， 31 SANDERS D ，S NDBERG ，F ARA M，et al.

38（13）：5699-5705. Ad ance in Re i t Material and roce in echnolo y
19 GAND ER R， ENC S . General a e cataly i ， V C . a hin ton：S E pre ，2010，7639：648-655.
tructure-reacti ity interaction ， and mer in o 32 ， A S N M C， VARANAS R. op coat material
mechani m or elimination reaction o （2-arylethyl） and u e thereo in litho raphy proce e ： S7335456
uinuclidinium ion . ournal o the American Chemical . 2008-02-26.
Society，1982，4（7）：1937-1951. 33 SANDERS D ，S NDBERG ，BR C ，et al.
20 ， R NG D，A EN R D，et al. ArF e cimer Ad ance in Re i t Material and roce in echnolo y
la er re i t a ed on luoroalcohol . olymer or V C . a hin ton：S E pre ，2008，6923：81-92.
Ad anced echnolo ie ，2006，17（2）：104-115. 34 D， B， ，et al. 2017 China Semiconductor
21 A EN R D，D E R R A，S R A MARAN，R，et echnolo y nternational Con erence C . i cataway： EEE
al. ow acti ation ener y photore i t compo ition and re ，2017：1-3.
健
proce or it u e： S2011 0008727A1 . 2011-01-13. 35 A EN R D，BR C ， ARS N C E. et al. Sel -
22 A EN R D，BR C ，D ER R A，et al. topcoatin re i t or photolitho raphy： S2007 0254235A1 . 康
科
工
应
探
Chemically ampli ied photore i t compo ition and proce 2007-11-01. ·
艺
学
索
or it u e： S9057951B2 . 2015-06-16. 36 ANDA ， ANNA S， NABE . o iti e re i t 用
安
23 ， NSBERG D，R DES F，et al. Ad ance in compo ition and pattern- ormin method u in the ame：
全
研
开
技
视
Re i t echnolo y roce in C . a hin ton：S E S2007 0059639A1 . 2007-03-15.
·
pre ，2003，5039：70-79. 37 ANDA ， ANNA S. o iti e re i t compo ition，re in
术
究
点
发
24 VARANAS R， NG R ， AS E M，et al. u ed or the po iti e re i t compo ition，compound u ed or 环
Ad ance in Re i t echnolo y and roce in C . ynthe i o the re in and pattern ormin method u in the 境
a hin ton：S E pre ，2005，5753：131-139. po iti e re i t compo ition： S2007 0134588A1 . 2007-
25 SANDERS D ， NDBERG ， R A MARAN R，
S
S
06-14.
et al. Ad ance in Re i t Material and roce in echnolo y 38 MA S，BR D，SAR BB . Material choice
V C . a hin ton：S E pre ，2007，6519：71-82. or u -45 nm litho raphy：immer ion characteri tic o
26 AMAS A ， S A A ，M R A M，et al.
ilicon- a ed ilayer re i t . ournal o hotopolymer
Ad ance in Re i t Material and roce in echnolo y
Science and echnolo y，2007，20（3）：457-463.
V C . a hin ton：S E pre ，2008，6923：619-625. 39 ANG D . Compo ition and proce e or immer ion
27 S R A N， A EBE ，SASA ，et al. Ad ance in
litho raphy： S2006 0246373A1 . 2006-11-02.
Re i t echnolo y and roce in C . a hin ton： 40 ARADA ， A A E AMA ， SA . olymer，
S E pre ，2006，6153：673-682.
re i t compo ition，nd patternin proce ： S2008 0090173
a
28 A EBE ，S R A N，SASA ，et al. Ad ance in
A1 . 2007-04-17.
Re i t Material and roce in echnolo y V C .
41 S EE AN M ，FARN AM B， A A ，et al.
a hin ton：S E pre ，2008，6923：581-589.
Ad ance in Re i t Material and roce in echnolo y
29 R DES F，C ANG C， ANDANARAC C ，et al.
V C . a hin ton：S E pre ，2008，6923：746-754.
Nor ornene-type polymer compo ition thereo and 42 义 ， . 国内 光 发 述 . 化工 理，
litho raphic proce u in uch compo ition ： S2006 0234
2022（7）：62-64.
164A1 . 2006-10-19.
30 ANG D ， C B. Compo ition and proce e or 收稿日期 2024-01-29（ ）

欢迎关注“涂料工业杂志”服务号

81