Page 13 - 涂料工业2024年第02期电子刊
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王烁天等:氟硅缩水甘油醚环氧单体的合成与性能研究








                                                                                                          式(1)











                             ?  ? ?

                                                                                                          式(2)





                          表1 光固化样品配方                            在流速为 30 mL/min 的氮气气氛下,将含有 5~10 mg
                 Table 1 Formula of photocurable samples        样品的氧化铝坩埚从 40 ℃加热至 800 ℃,加热速率
                                        用量/%   a                为10 ℃/min。
             样品编号                                                                                                    探
                              E4221      VOH       FSi-GE            拉伸性能测试:依据 GB/T 1040. 2—2006《塑料
             FSi-GE-0%          50         50         0         拉伸性能的测定》,采用电子万能试验机对制备的光                              索
             FSi-GE-0. 5%       50         50        0. 5       固化样条进行拉伸性能测试,测试速度为 1 mm/min。
                                                                                                                     开
             FSi-GE-1%          50         50         1         每个样品重复3次试验,取平均值。
             FSi-GE-2%          50         50         2              凝胶率:准确称取质量为m 的光固化膜放入样品                          发
                                                                                            1
             FSi-GE-3%          50         50         3         瓶,加入无水乙醇,密封浸泡48 h。然后将样品取出后
                注:—以E4221与VOH总物质的量计。                            在烘箱中烘干至恒质量m 。每个样品重复测试4次(质
                   a
                                                                                      2
             1. 4  测试及表征                                        量精确0. 000 1 g),取平均值。按式(4)计算凝胶率。
                 结构表征:采用核磁共振波谱仪(CDCl 作为氘                                     m 2                          式(4)
                                                     3               凝胶率=       × 100%
             代试剂,四甲基硅烷作为内标物)和傅立叶变换红外                                         m 1
             光谱仪对FSi-GE的结构进行表征。                                 2  结果与讨论

                 光聚合动力学曲线:采用实时红外光谱(RT-FT-
             IR)技术,通过监测位于 750 cm 处的环氧基团特征                       2. 1  FSi-GE结构表征
                                         -1
             峰在光聚合过程中的变化,按式(3)计算环氧基团转                                通过 NMR 和 FT-IR 光谱表征了 FSi-GE 的结构,

             化率,研究光聚合动力学。所使用光源为带有 5 mm                          结果如图1、图2所示。
             直径光导纤维的紫外汞灯(Omnicure S200),主要发                          从图 1(a)FSi-GE 的 H  NMR 谱可以看出 ,
                                                                                         1
             射波长为 365 nm。测试时涂有样品的盐片与光纤的                         —CH=CH 基团(化学位移位于 5. 17、5. 27 和 5. 92)
                                                                          2
             距离为 10 cm,辐照强度为 20 mW/cm 。对于每个样                    的吸收峰消失,且与 Si相连的甲基上共有 15个氢,这
                                              2
             品,进行 3 次试验,该 3 次试验所得对应时间的转化                        标志着硅氢化反应完成。此外,FSi-GE 在化学位移
             率相对偏差小于 2%,在大多数情况下小于 1% 。                          0. 59 处出现了与硅相连的—CH 的特征峰 k,在化学
                                                      [10]
                                                                                             2
                                 é ê ê  ( )   ù ú ú             位移3. 15、2. 80和2. 61处出现了环氧质子峰 c、d、。
                                                                                                             e
                                       A e,t /A a,t
                                 ê ê
                环氧基团转化率 = 1 -                 ú ú  × 100%  式(3)
                                 ë     A e,0 /A a,0  û               从图 1(b)FSi-GE 的 C NMR 谱可以看出,在化
                                                                                       13
                 式中:A 、A 分别是 0时和 t时,脂环族环氧基团                     学位移 126. 04处的吸收峰a为—CF 基团的特征吸收
                        e,0  e, t                                                               3
             吸收峰面积;A 、A 分别是 0时和 t时,不参与聚合反                       峰,在化学位移 74. 20~71. 44 处为—C—O—C—基团
                          a,0  a, t
             应的基团的吸收峰面积。                                        的吸收峰。
                 水接触角:采用水接触角测定仪,测定光固化涂                               图 1(c)中 FSi-GE 的 F NMR 谱图上,化学位移
                                                                                       19
             层表面的水接触角。对样品的 2 个不同位置分别进                           −69. 08 处仅有一种吸收峰,峰为多重峰,进一步证明
             行3次测量,取平均值。测试环境温度为 20 ℃。                           了FSi-GE的侧链上具有重复单元为 3的—CF 基团。
                                                                                                         3
                 耐热性:热重分析实验在热重分析仪上进行。                                图 1(d)FSi-GE 的 Si  NMR 谱中 ,化学位移
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                                                                                                           3
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